偏平化logo设计制作
工具/原料
PC20
win7
pscs6
方法/步骤
1、新建图层，在背景地方填充一种颜色，然后复制一层。
2、选择背景副本，混合模式->描边。内部。把填充不透明度改为0
3、在上面打上几个文字，复制一层。把复制出来的文字图层格栅化
4、然后选择图形->调整->反相（Ctrl+I）
5、把反相图层移动到文字图层下面。然后按住alt+ctrl，同时再按方向键，→↓→↓
6、选择刚才复制所以图层，盖印合并Ctrl+E。合并后再复制几层。
7、把阴影图层不透明度改为30%，拖到复制背景图层的下面
