光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一,特别鋈守踬痊是近年来大规模和超大规模集成电路的发展,更是大大促进了光刻胶的研究开发和应用。那么,你知道光刻胶的作用是什么?
方法/步骤
1、在光的照射下溶解速率发生变化,利用曝光区与非曝光区的溶解速率差来实现图形的转移。
2、溶解抑制/溶解促进共同作用。
3、将掩膜板上的图形转移到硅片表面的氧化层。
4、在后续工序中,保护下面的材料(刻蚀或离子注入)。
光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一,特别鋈守踬痊是近年来大规模和超大规模集成电路的发展,更是大大促进了光刻胶的研究开发和应用。那么,你知道光刻胶的作用是什么?
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1、在光的照射下溶解速率发生变化,利用曝光区与非曝光区的溶解速率差来实现图形的转移。
2、溶解抑制/溶解促进共同作用。
3、将掩膜板上的图形转移到硅片表面的氧化层。
4、在后续工序中,保护下面的材料(刻蚀或离子注入)。